4.8 Article

Back Gated Multilayer InSe Transistors with Enhanced Carrier Mobilities via the Suppression of Carrier Scattering from a Dielectric Interface

期刊

ADVANCED MATERIALS
卷 26, 期 38, 页码 6587-6593

出版社

WILEY-V C H VERLAG GMBH
DOI: 10.1002/adma.201402427

关键词

two dimensional layer semiconductor; indium selenide; field-effect transistor; mobility; carrier scatter

资金

  1. National Natural Science Foundation of China (NSFC) [61172001, 21373068]
  2. National key Basic Research Program of China (973 Program) [2013CB632900]

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