3.9 Article

Study on Mechanisms of Photon-Induced Material Removal on Silicon at Atomic and Close-to-Atomic Scale

期刊

Nanomanufacturing and Metrology
卷 4, 期 4, 页码 216-225

出版社

Springer Science and Business Media LLC
DOI: 10.1007/s41871-021-00116-4

关键词

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类别

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