4.8 Article

Molecular Lithography through DNA-Mediated Etching and Masking of SiO2

期刊

JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
卷 133, 期 31, 页码 11868-11871

出版社

AMER CHEMICAL SOC
DOI: 10.1021/ja2038886

关键词

-

资金

  1. University of Pittsburgh

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We demonstrate a new approach to pattern transfer for bottom-up nanofabrication. We show that DNA promotes/inhibits the etching of SiO2 at the single-molecule level, resulting in negative/positive tone pattern transfers from DNA to the SiO2 substrate.

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