4.4 Article

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期刊

IEEE SPECTRUM
卷 49, 期 1, 页码 47-50

出版社

IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
DOI: 10.1109/MSPEC.2012.6117838

关键词

Lithography; Ultraviolet sources; Tin; Photonics; Plasmas; Resists

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